Samsung, al via la produzione di chip a 7nm LPP EUV

Samsung ha annunciato il via alla produzione di massa di chip a 7nm Low Power Plus, il primo processo produttivo ad utilizzare la litografia extreme ultraviolet - da questo la sigla LPP EUV. Secondo l'azienda coreana, tutto il processo di ricerca e sviluppo della tecnologia è stato completato e, nella Fab S3 di Hwaseong, si è partiti con la produzione dei primi wafer di chip 7LPP basati su litografia EUV.

Il processo EUV prevede l'utilizzo di un raggio di luce con lunghezza d'onda di 13,5nm per l'esposizione dei wafer di silicio. Al contrario, il precedente metodo di produzione a immersione con floruro di argon (ArF) utilizza una lunghezza d'onda di 193nm e richiede per questo l'utilizzo di maschere multi pattern molto costose.

Grazie all'EUV è possibile utilizzare una singola maschera dove prima, con il processo ArF, era necessario utilizzarne addirittura quattro. In sostanza, il nuovo processo produttivo adottato da Samsung dovrebbe essere in grado di diminuire del 20% il numero di maschere utilizzate, riducendo in maniera considerevole complessità e costi.


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Source: Hardware
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